离子溅射合金表面组份再分布的模拟计算

范垂祯, 杨得全

范垂祯, 杨得全. 离子溅射合金表面组份再分布的模拟计算[J]. 真空与低温, 1990, (3): 12-15,51.
引用本文: 范垂祯, 杨得全. 离子溅射合金表面组份再分布的模拟计算[J]. 真空与低温, 1990, (3): 12-15,51.

离子溅射合金表面组份再分布的模拟计算

  • 摘要: 离子溅射合金和化合物后会引起表面成分的再分布。根据Kelly的理论分析观点,综合考虑了择优溅射(PS),离子辐照诱导偏析(RIS)和辐照增强扩散(RED)效应,得到了合金表面成分变化的基本关系。用此分析关系对Au—Cu、Cu—Ni合金离子轰击后表面成分的变化、Au—Pd和Cu—Ni合金离子轰击后的X射线光电子谱、俄歇电子谱的分析结果进行了模拟计算,计算结果与实验完全吻合。通过分析计算认为,离子辐照增强扩散系数的大小对表面成分的变化有很大的影响。初步计算得到的增强扩散激活能约为0.09eV,与实验结果(0.06eV)相一致,约为通常热扩散激活能的二十分之一。
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-03-25

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