等离子体增强化学气相沉积氮化钛薄膜

  • 摘要: 等离子增强化学气相沉积法(PCVD)是在物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)基础上发展起来的一种沉积方法。它兼有PVD和CVD方法的优点。介绍了PCVD的原理和所研制的一台PCVD设备。分析了用CVD法和PCVD法制备的硬质膜的性能。所分析的性能有:显微硬度、抗弯强度、粘结牢度、机加工性能。

     

/

返回文章
返回