高级搜索
首页
关于本刊
期刊简介
期刊荣誉
编委会
第九届编委会
第八届编委会
青年编委会
第二届青年编委会
第一届青年编委会
期刊在线
最新录用
优先发表
当期目录
过刊浏览
浏览排行
下载排行
引用排行
出版伦理
作者中心
投稿指南
征稿简则
下载中心
产品中心
原子钟
真空装置
空间电推进
真空测量仪器
联系我们
English
所有
标题
作者
关键词
摘要
DOI
栏目
地址
基金
中图分类号
首页
关于本刊
期刊简介
期刊荣誉
编委会
第九届编委会
第八届编委会
青年编委会
第二届青年编委会
第一届青年编委会
期刊在线
最新录用
优先发表
当期目录
过刊浏览
浏览排行
下载排行
引用排行
出版伦理
作者中心
投稿指南
征稿简则
下载中心
产品中心
原子钟
真空装置
空间电推进
真空测量仪器
联系我们
English
表面处理中的物理气相沉积法
袁恒祺 译
摘要
HTML全文
图
(0)
表
(0)
参考文献
(0)
相关文章
施引文献
资源附件
(0)
摘要
HTML全文
参考文献
(0)
相关文章
施引文献
资源附件
(0)
/
下载:
全尺寸图片
幻灯片
返回文章
分享
用微信扫码二维码
分享至好友和朋友圈
返回
×
Close
导出文件
文件类别
RIS(可直接使用Endnote编辑器进行编辑)
Bib(可直接使用Latex编辑器进行编辑)
Txt
引用内容
引文——仅导出文章的Citation信息
引文和摘要——导出文章的Citation信息和文章摘要信息
×
Close
引用参考文献格式
下载: